負壓內循環真空烘箱 實時監控氧含量濃度 半導體行業專用真空箱

半導體專用新型真空烘箱，升溫降溫可控，實時監測氧含量濃度，負壓內微循環，自主研發全套臺達PLC控制系統

技術參數：

內膽尺寸:470*450*450 (寬*深*高) 

溫度范圍:室溫~200℃

溫度波動度:0.2℃

升溫速率:室溫~150℃/30min

降溫速率:150C~60℃/30min

真空度:極限 100Kpa~0.1KPa 絕壓型

抽氣速率:02KPa/5min

真空泄漏率:24h/0.7kpa

真空度釋放:5~15min 手動可調，破真空可切換氮氣或空氣

氧濃度:1000ppm 以下

電壓:380V/50HZ

功率:5.5KW

氮氣流量:10~100L/min(手動流量計控制)

隔板:3 塊(123mm 三層，每層隔板最大承重 20KG)

產品特點：

  采用PLC 觸摸屏，內加熱快速升溫水冷卻管道快速降溫，數字壓力傳感器，旋片油泵，氧含量濃度檢測，三色燈，獨立接口氮氣正壓力監控器連接電磁閥釋放氣體。

  控制邏輯:觸摸屏控 SSR 溫度接觸器運行，抽氣運行，放氣自動，溫度與真空度分段循環設置，先真空度達到與氧氣濃度到達后保持再氮氣破真空后溫度升溫再保持

  立式結構，腔體在上部，腔體內有循環風機加熱管，冷卻管道風道板，儀表在中部，底部真空

  工作室材料:內膽不銹鋼拉絲板

  抽氣波紋管，不銹鋼壓差閥，氮氣減壓閥與流量計，小型抽氣過濾罐，排氣油霧過濾器

  USB 接頭，啟動電源開關，報警指示燈

  數字獨立限溫保護，接地保護，漏電保護，真空泵過熱保護，循環電機過載保護